Установка для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в вакууме, управляемой газовой среде, в том числе восстановительной или окислительной атмосфере
Специальная конструкция камеры, выполненной из алюминия, позволяет проводить процессы температурной обработки при экстремально высоких температурах (до 1300°С) в сочетании с длительными временем отжига (до 60 мин). Установка ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной
производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 150 мм.
Одной из отличительных особенностей конструкции STE RTP150 является разделение рабочих объемов нагревателя и отжигаемого образца. Нагреватель, представляющий собой систему
линейных галогеновых ламп, находится вне реактора и нагревает графитовый столик извне рабочей камеры через установленное в ней кварцевое окно. Нагреватель позволяет проводить процессы с максимальной температурой до 1300°С и максимальной скоростью достижения заданной температуры 150°С/сек. Водоохлаждаемая алюминиевая конструкция камеры позволяет проводить длительные процессы отжига. Благодаря надежной герметизации, камера предусматривает предварительное вакуумирование с последующим напуском рабочего газа.
Предельное остаточное давление в камере (реакторе), Торр |
<10(Б); <0,1(О) |
Скорость откачки вакуумного насоса, м3/час |
5 |
Водяное охлаждение стенок реактора |
(Б) |
Максимальный диаметр обрабатываемой пластины, мм |
150 |
Максимальная скорость нагрева, °С/сек. |
150 |
Максимальная температура нагрева, °С |
1300 |
Однородность нагрева для пластины диаметром 100 мм, % |
±1 (до 900°С) |
Возможность проведения процесса отжига в вакууме |
(Б) |
Термическая обработка в кислородной среде |
(О) – линия газоподачи с регулятором потока газа |
Количество термопар, шт. |
2 |
Оптический пирометр |
(Б) |
Полная автоматизация процесса |
(Б) |